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[纳米材料的X射线分析第二版 Ｘ射线方法纳米材料测试分析 晶体学基础X射线衍射理论 X射线实验装置方法书 纳米晶体材料研究图书籍]

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A8
[基本信息.jpg]

[书名: 纳米材料的X射线分析（二版）]

[ISBN编号: 9787122334169]

[作者: 程国峰、杨传铮 编著]

[定价: 88.00元]

[出版社名称: 化学工业出版社]

[内容简介.jpg]

[本书是主要介绍利用X射线等激发样品从而表征材料结构，特别是纳米材料晶体结构相关信息的专著。考虑到纳米材料的特殊性，本书分为三个部分：晶体学基础、X射线衍射理论基础、X射线实验装置和方法等四章为基础部分；中间部分是X射线衍射分析方法和应用，包括物相定性和定量、晶体学参数测定、纳米材料微结构的衍射线形分析、Rietveld结构精修和小角散射等；后介绍了化学组成和原子价态、纳米薄膜和介孔材料等的X射线分析。]
[ 本书可供从事X射线衍射与散射技术以及X射线谱等分析的专业人员参考，也可供从事纳米材料相关的研究人员、工程技术人员以及高等院校相关专业的教师和学生阅读。]

[目录.jpg]

[1章晶体几何学基础001]
[ 1.1晶体点阵/001]
[ 1.1.1点阵概念/001]
[ 1.1.2晶胞、晶系/003]
[ 1.1.3点阵类型/003]
[ 1.2晶体的宏观对称性和点群/005]
[ 1.2.1宏观对称元素和宏观对称操作/005]
[ 1.2.2宏观对称性和点群/008]
[ 1.3晶体的微观对称性和空间群/011]
[ 1.3.1微观对称要素与对称操作/011]
[ 1.3.2230种空间群/012]
[ 1.4倒易点阵/013]
[ 1.4.1倒易点阵概念的引入/013]
[ 1.4.2正点阵与倒易点阵间的几何关系/015]
[ 1.4.3晶带、晶带定律/016]
[ 1.5晶体的结合类型/017]
[ 1.5.1离子结合/017]
[ 1.5.2共价结合/019]
[ 1.5.3金属结合/019]
[ 1.5.4分子结合/020]
[ 1.5.5氢键结合/020]
[ 1.5.6混合键晶体/020]
[ 参考文献/021]

[ 2章X射线衍射理论基础022]
[ 2.1X射线及X射线谱/022]
[ 2.1.1X射线的本质/022]
[ 2.1.2X射线谱/022]
[ 2.2射线与物质的交互作用/026]
[ 2.2.1X射线的吸收/026]
[ 2.2.2激发效应/027]
[ 2.2.3X射线的折射/027]
[ 2.2.4X射线的反射/027]
[ 2.2.5物质对X射线的散射和衍射/028]
[ 2.3衍射线的方向/029]
[ 2.3.1劳厄方程/029]
[ 2.3.2布拉格定律/031]
[ 2.4多晶体衍射强度的运动学理论/035]
[ 2.4.1单个电子散射强度/035]
[ 2.4.2单个原子散射强度/036]
[ 2.4.3单个晶胞散射强度/037]
[ 2.4.4实际小晶粒积分衍射强度/039]
[ 2.4.5实际多晶体衍射强度/040]
[ 2.5X射线衍射及相关的研究方法/044]
[ 参考文献/0452]

[ 3章X射线衍射实验装置046]
[ 3.1X射线衍射仪原理和实验技术/047]
[ 3.1.1一般特点/047]
[ 3.1.2光学原理/049]
[ 3.1.3衍射仪的准直和角度校准/050]
[ 3.1.4衍射仪参数的选择/050]
[ 3.1.5晶体单色器/050]
[ 3.2X射线源/052]
[ 3.2.1普通X射线源/052]
[ 3.2.2同步辐射光源/054]
[ 3.3X射线探测器和记录系统/060]
[ 3.3.1盖格计数器、正比计数器和闪烁计数器/060]
[ 3.3.2能量探测器/063]
[ 3.3.3面探测器/064]
[ 3.3.4阵列探测器/065]
[ 3.3.5记录系统的发展/066]
[ 3.4工作模式及附件/066]
[ 3.4.1粉末衍射仪的工作模式/067]
[ 3.4.2X射线粉末衍射仪中的附件/070]
[ 参考文献/073]

[ 4章多晶X射线衍射实验方法074]
[ 4.1测角仪/074]
[ 4.2狭缝系统及几何光学/077]
[ 4.3样品制备/078]
[ 4.3.1粉末的要求和制备/079]
[ 4.3.2填样宽度和深度/080]
[ 4.3.3样品的放置位置/083]
[ 4.3.4样品颗粒粗细对数据的影响/083]
[ 4.4粉末衍射数据的获取/084]
[ 4.4.1波长的选择/084]
[ 4.4.2单色化/085]
[ 4.4.3功率设定/085]
[ 4.4.4步进扫描/086]
[ 4.4.5连续扫描/086]
[ 4.4.6扫描范围/087]
[ 4.5实验方法和数据处理方法对实验结果的影响/087]
[ 4.6X射线的安全与防护/088]
[ 参考文献/089]

[ 5章物相定性分析091]
[ 5.1物相定性原理和ICDD数据库/091]
[ 5.1.1物相定性分析的原理和方法/091]
[ 5.1.2粉末衍射卡组(PDF)及其索引/092]
[ 5.1.3PDF数据库/96]
[ 5.2定性分析的步骤/100]
[ 5.2.1实验获得待检测物质的衍射数据/100]
[ 5.2.2数据观测与分析/101]
[ 5.2.3检索和匹配/101]
[ 5.2.4后判断/101]
[ 5.2.5具体示例/102]
[ 5.3定性分析的计算机检索/104]
[ 5.3.1PCPDFWIN定性相分析系统的应用/104]
[ 5.3.2Jade 定性相分析系统的应用/109]
[ 5.3.3人工检索和计算机检索的比较/115]
[ 5.4复相分析和无卡相分析/1165]
[ 5.4.1复相分析/118]
[ 5.4.2无卡相分析/120]
[ 5.5物相定性分析中应注意的问题/122]
[ 参考文献/124]

[ 6章物相定量分析125]
[ 6.1多晶物相定量分析原理/125]
[ 6.1.1单相试样衍射强度的表达式/126]
[ 6.1.2多重性因数/126]
[ 6.1.3结构因数/126]
[ 6.1.4温度因数/127]
[ 6.1.5吸收因数/128]
[ 6.1.6衍射体积/128]
[ 6.1.7多相试样的衍射强度/129]
[ 6.2采用标样的定量相分析方法/130]
[ 6.2.1内标法/131]
[ 6.2.2增量法/134]
[ 6.2.3外标法/142]
[ 6.2.4基体效应消除法（K值法）/147]
[ 6.2.5标样方法的实验比较/151]
[ 6.3无标样的定量相分析方法/152]
[ 6.3.1直接比较法/152]
[ 6.3.2绝热法/154]
[ 6.3.3Zevin的无标样法及其改进/156]
[ 6.3.4无标样法的实验比较/164]
[ 6.4定量分析的新进展和注意的问题/165]
[ 6.4.1定量分析的新进展/165]
[ 6.4.2Rietveld定量分析/167]
[ 6.4.3X射线物相定量分析中应注意的问题/169]
[ 参考文献/170]

[ 7章指标化和晶胞参数的测定171]
[ 7.1多晶衍射图的指标化/171]
[ 7.1.1 已知精确晶胞参数时衍射线的指标化/171]
[ 7.1.2已知粗略晶胞参数时衍射线的指标化/171]
[ 7.1.3指标立方晶系衍射图的sin2]&[theta;比值法/172]
[ 7.1.4指标四方和六方晶系衍射图的图解法/172]
[ 7.1.5指标未知晶系衍射图的尝试法/175]
[ 7.1.6指标未知晶系衍射图的伊藤法(Ito)/175]
[ 7.2晶胞参数的精确测定/177]
[ 7.2.1德拜-谢乐照相法/179]
[ 7.2.2聚焦相机法/183]
[ 7.2.3衍射仪法/184]
[ 参考文献/184]

[ 8章纳米材料微结构的X射线表征185]
[ 8.1谱线线形的卷积关系/185]
[ 8.2微晶宽化与微应力宽化效应/186]
[ 8.2.1微晶宽化效应]—&[mdash;谢乐公式/186]
[ 8.2.2微应力引起的宽化/188]
[ 8.3分离微晶和微应力宽化效应的各种方法/188]
[ 8.3.1Fourier级数法/188]
[ 8.3.2方差分解法/190]
[ 8.3.3近似函数法/191]
[ 8.3.4前述几种方法的比较/191]
[ 8.4堆垛层错引起的宽化效应/192]
[ 8.4.1密堆六方的堆垛层错效应/192]
[ 8.4.2面心立方的堆垛层错效应/192]
[ 8.4.3体心立方的堆垛层错效应/193]
[ 8.4.4分离密堆六方ZnO中微晶-层错宽化效应的Langford方法/194]
[ 8.5分离多重宽化效应的小二乘法/195]
[ 8.5.1分离微晶-微应力宽化效应的小二乘法/195]
[ 8.5.2分离微晶-层错宽化效应的小二乘法/196]
[ 8.5.3分离微应力-层错二重宽化效应的小二乘法/197]
[ 8.5.4分离微晶-微应力-层错三重宽化效应的小二乘法/198]
[ 8.5.5计算程序的结构/200]
[ 8.6应用举例/201]
[ 8.6.1MmB5储氢合金微结构的研究/202]
[ 8.6.2纳米NiO的制备和微结构的表征/204]
[ 8.6.3纳米Ni粉的制备和微结构的表征/205]
[ 8.6.4V-Ti合金在储放氢过程中的微结构研究/207]
8.6.5&[beta;-Ni(OH)2中微结构的研究/209]
[ 8.6.6纳米ZnO微结构的研究/218]
[ 8.6.7Mg-Al合金的微结构研究/220]
[ 8.6.8石墨堆垛无序度的研究/222]
[ 8.6.9应用小结/227]
[ 参考文献/228]

[ 9章Rietveld结构精修原理与方法230]
[ 9.1Rietveld方法的发展史/231]
[ 9.2Rietveld方法的基本原理/232]
[ 9.2.1Rietveld方法的算法/233]
[ 9.2.2Rietveid方法结果的评价/234]
[ 9.3Rietveld方法中衍射峰的线形分析/235]
[ 9.3.1峰形函数分析方法/235]
[ 9.3.2峰形函数拟合/235]
[ 9.3.3微结构分析/237]
[ 9.4Rietveld分析中的校正/238]
[ 9.4.1择优取向校正/238]
[ 9.4.2微吸收校正/239]
[ 9.4.3背底修正/240]
[ 9.5Rietveld方法的晶体结构分析/240]
[ 9.6Rietveld方法的相定量分析/241]
[ 9.7Rietveld方法的指标化和相分析/242]
[ 9.8Rietveld分析的实验方案/243]
[ 9.8.1仪器的选择/243]
[ 9.8.2波长和衍射数据范围选择/243]
[ 9.8.3步进方式选择/244]
[ 9.9Rietveld精修的步骤和策略/245]
[ 参考文献/247]

[ 10章粒度分布和分形结构的小角散射测定250]
[ 10.1小角X射线散射理论简介/250]
[ 10.1.1一个电子的散射/250]
[ 10.1.2两个电子的散射/251]
[ 10.1.3多电子系统的散射/252]
[ 10.1.4多粒子系统的小角X射线散射/253]
[ 10.2小角Ｘ射线散射实验装置/255]
[ 10.2.1三狭缝系统/255]
[ 10.2.2针状狭缝系统/256]
[ 10.2.3锥形狭缝系统/256]
[ 10.2.4Kratky狭缝系统/257]
[ 10.2.5多重晶反射系统/257]
[ 10.2.6同步辐射SAXS装置/257]
[ 10.2.7小角X射线散射的实验配置/258]
[ 10.3小角散射的实验技术和方法/258]
[ 10.3.1试样制备技术/258]
[ 10.3.2光路的校准/259]
[ 10.3.3散射数据的前处理/259]
[ 10.4异常小角X射线散射和二维小角X射线散射/260]
[ 10.4.1异常小角X射线散射/260]
[ 10.4.2二维小角X射线散射/262]
[ 10.5纳米材料颗粒大小及其分布的测定/263]
[ 10.5.1一些常用的计算方法/263]
[ 10.5.2小角散射与其他方法的比较/264]
[ 10.6纳米材料分形结构研究/265]
[ 10.6.1分形/265]
[ 10.6.2来自质量和表面尺幂度体的小角散射/267]
[ 10.6.3散射强度与尺幂度体维度的关系/268]
[ 参考文献/269]

[ 11章化学组分和原子价态的X射线分析270]
[ 11.1X射线发射谱/270]
[ 11.1.1激发Ｘ射线/270]
[ 11.1.2X射线发射谱化学分析/272]
[ 11.1.3X射线发射谱的精细结构/273]
[ 11.2X射线吸收谱/274]
[ 11.2.1吸收限/274]
[ 11.2.2用X射线吸收谱的化学定性定量分析/275]
[ 11.3俄歇电子能谱/275]
[ 11.3.1俄歇电子的能量和强度/276]
[ 11.3.2用俄歇电子谱的元素定性定量分析/277]
[ 11.3.3用俄歇谱的化学价态研究/278]
[ 11.4光电子能谱/278]
[ 11.4.1光电子谱的能量和强度/278]
[ 11.4.2X射线光电子能谱化学分析/280]
[ 11.4.3价态研究/280]
[ 11.4.4价态研究实例/282]
[ 11.5软X射线磁圆二色谱/283]
[ 11.5.1X射线磁圆二色的基本原理/283]
[ 11.5.2软X射线磁圆二色谱实例/284]
[ 参考文献/286]

[ 12章纳米薄膜和一维晶格材料的X射线分析287]
[ 12.1概述/287]
[ 12.2薄膜分析中常用的X射线方法/288]
[ 12.2.1低角度X射线散射和衍射/288]
[ 12.2.2掠入射X射线衍射/288]
[ 12.2.3粉末衍射仪和薄膜衍射仪/289]
[ 12.2.4双晶衍射仪和多重晶衍射仪/289]
[ 12.3原子尺度薄膜的研究/290]
[ 12.4纳米薄膜和多层膜的研究/291]
[ 12.4.1膜的厚度测定/291]
[ 12.4.2厚度涨落的研究/295]
[ 12.4.3薄膜组分测定/298]
[ 12.4.4薄膜的相分析和相变/299]
[ 12.4.5薄膜晶粒大小和嵌镶块大小的测定/300]
[ 12.4.6单晶膜完整性的观测/301]
[ 12.5薄膜材料中的应力测定/302]
[ 12.5.1单晶薄膜的应变和弯曲度的测定/302]
[ 12.5.2多晶膜的应力测定/304]
[ 12.5.3纳米薄膜材料应力测定的特征/307]
[ 12.6一维晶格材料的Ｘ射线分析/307]
[ 12.6.1非晶点阵的研究/308]
[ 12.6.2多晶点阵的研究/309]
[ 12.6.3单晶点阵的研究/312]
[ 12.7点阵界面粗糙度的X射线散射理论/318]
[ 12.7.1一般介绍/318]
[ 12.7.2来自不同粗糙界面的散射/322]
[ 12.8不完整性和应变的衍射空间或倒易空间图研究/323]
[ 12.8.1衍射空间绘制/323]
[ 12.8.2倒易空间测绘/323]
[ 参考文献/326]

[ 13章介孔材料的X射线表征327]
[ 13.1介孔材料的分类/327]
[ 13.2介孔材料的X射线表征/328]
[ 13.2.1X射线表征的特点和实验要求/328]
[ 13.2.2孔结构参数的计算/329]
[ 13.3介孔氧化硅材料的X射线表征/329]
[ 13.3.1二维六方结构/329]
[ 13.3.2立方孔道结构/332]
[ 13.3.3三维六方-立方共生结构/334]
[ 13.4金属氧化物介孔材料的X射线表征/336]
[ 13.4.1金属氧化物介孔材料的结构特征/336]
[ 13.4.2氧化钛介孔材料/336]
[ 13.4.3介孔氧化铁的X射线表征/337]
[ 13.4.4介孔Co3O4和Cr2O3的X射线表征/339]
[ 13.4.5介孔NiO的X射线表征/339]
[ 13.4.6介孔MnO2的X射线表征/341]
[ 13.4.7介孔稀土氧化物的X射线表征/341]
[ 13.5介孔碳材料的X射线表征/342]
[ 13.6介孔聚合物和高分子材料的X射线表征/346]
[ 13.6.1以介孔氧化硅为模板制备的高分子介孔材料/346]
[ 13.6.2以Pluronic F127为模板制备的高分子介孔材料/347]
[ 13.7介孔材料的分形结构SAXS研究/349]
[ 参考文献/351]