8 (905) 200-03-37 Владивосток
с 09:00 до 19:00
CHN - 1.14 руб. Сайт - 21.13 руб.

Принцип газового ответа Ли Чженшан Кай Нингсенг Наука Пресс Наука и естественная химическая математика модели Сплошная сияние химическая реагирующая динамическая структура власти

Цена: 5 475руб.    (¥259.1)
Артикул: 618040109531

Вес товара: ~0.7 кг. Указан усредненный вес, который может отличаться от фактического. Не включен в цену, оплачивается при получении.

Этот товар на Таобао Описание товара
Продавец:中图天下图书专营
Адрес:Пекин
Рейтинг:
Всего отзывов:0
Положительных:0
Добавить в корзину
Другие товары этого продавца
¥69.81 475руб.
¥139.72 952руб.
¥641 353руб.
¥1382 916руб.


Основная информация.jpg

Название: Принципы твердой реакции ци


Цена: 328 Юань


Автор: Ли Чженшан, Кай Нин, родился


Пресса: Science Press


Дата публикации: 2020-03-01


ISBN: 9787030636669


Слова: 1540000


Номер страницы: 771


Издание: 1


Переплет: Твердый переплет.


Открыто: 16


Товарный вес:



Введение. JPG

«Принцип сплошной реакции QI» в объяснении трех основных научных вопросов, связанных с передачей, поверхностной реакцией и твердой структурой процесса твердого отклика.~ 5 Внедряйте микро -масштабные знания, связанные с реакцией QI.Глава - квантовая химия и потенциальная поверхность.Глава с 2 по 5 представляет соответствующие базовые знания, связанные с химическим балансом, динамикой химической реакции, твердой структуре, химии дефектов, адсорбции поверхности и реакции и т. Д.6 ~ Чжан представляет мегазвуковые знания, связанные с реакцией ци.Глава 6, 7 Рост твердых продуктов в твердой реакции газа и принцип принципов диффузии продукта, механизмов и математических моделей и численных решений обсуждается в более подробном обсуждении.Глава 8 Представьте принципы, механизмы и математические модели внутреннего образования пор и эволюция твердых частиц.


Каталог.jpg

Оглавление

Предисловие

Глава квантовая химия и потенциальная поверхность энергии 1

1.1 Введение 1

1.2 Уравнение Xue Dingzhang 2

1.2.1 Волны и частицы 2

1.2.2 Волновые частицы Dual Pixel 4

1.2.3 Уравнения XUE Dingzhang 6

1.2.4 волновая функция 7

1.3 Анализ квантовой механики и мышление одной измерной потенциальной ловушки

1.3.1 одна измеренная ловушка

1.3.2 Принципы неопределенности 14

1.3.3 Принципы комплементации 15

1.3.4 Эффект квантового механического туннеля 15

1.3.5 Применение эффекта квантового механического туннельного эффекта 18

1.4 Модель 21

1.5 Простое применение уравнения Xue Dingzhang 25

1.5.1 Резонанс 25

1.5.2 Модель морального жесткого ротора 28

1.5.3 Электронная энергия 29

1.6 Принцип приближения Boan-Obonheimer 34

1.7 Метод квантового химического расчета 36

1.7.1 Обзор Отдела изменений 36

1.7.2 Метод разделения линейного изменения 37

1.8 Метод Harti-Fok 41 квантового химического расчета

1.8.1 Метод изменения пан -буквы 41

1,8,2 Харти средняя теория поля 43

1.8.3 Теория Харти-Фохора 46

1.9 Стоматологические буквы квантовых химических расчетов Теория 47

1.9.1 Теорема Хоэнберга-Кона 47

1.9.2 Уравнение Кон-Шама 50

1.9.3 Метод LDA, рассчитанное по уравнению Кон-Шама 55

1. Химическая реакция потенциальная энергия поверхности 56

1..1 Потенциальная концепция 56

1..2 Строительство потенциальной поверхности энергии 58

1 .. 3 переходного состояния на потенциальной энергии 62

1..4 Алгоритм поиска переходного состояния 64

1. 5 Переходное измерение 68

1..6 Применение потенциальной поверхности энергии 69

1.11 Резюме 71

Символ Таблица 73

Ссылки 74

Глава 2 Статистическая механика и химический баланс 79

2.1 ВВЕДЕНИЕ 79

2.2 Уровень энергии 79

2.3 Статистика на основе метода 82 на основе энтропии 82

2.3.1 Метод энтропии 82

2.3.2 Ограничение энергии 84

2.3.3 Вблизи независимой системы частиц 85

2.3.4 Система частиц смеси 87

2.4 Применение функции оценки 89

2.4.1 Статистика термодинамики функция 89

2.4.2 Разработка уравнения статуса 90

2.5 Химический баланс на основе статистической механики 92

2.5.1 Статистический цифровой расчет химического баланса 92

2.5.2 Алгоритм численного расчета химического баланса 96

2.6 Элементный метод пентионерского метода расчета химического баланса 2

2.6.1 Метод элементарной энергии 2

2.6.2 Решение Элементной потенциальной энергии Метод 5 5

2.6.3 Значение метода потенциальной энергии элемента для решения шага 8

2.7 Расчет расчета химического баланса 112

2.8 Chemical Balance Constant 119

2.8.1 Статистика константы химического баланса 119

2.8.2 Статистическая значимость константы химического баланса 122

2.8.3 Расчет константы химического баланса 127

2.8.4 Влиятельный фактор баланса постоянной 128

2.9 Расчет Qi -Solid -реакции Химический баланс 133

2.9.1 Эллингем из реакции окисления/восстановления металлов Рисунок 134

2.9.2 Сбалансированная постоянная оксида металла и реакции CO2 139

2.9.3 Расчет, состоящий из баланса реакции 142

2. Резюме 147

Символ Таблица 149

Ссылки 150

Глава 3 Химическая реакция Динамика и механизм упрощают 153

3.1 Введение 153

3.2 Химический ответ 154

3.2.1 Уравнение химической реакции 154

3.2.2 Закон качества химической реакции 156

3.2.3 Бикардская реакция и полная реакция 160

3.3 Аронус Форма 163 динамики химической реакции 163

3.4 Теория молекулярного столкновения со скоростью химической реакции 165

3.4.1 Теория столкновения с жестким мячом 165

3.4.2 Maxwell Bolitzmann Распределение 168 на скорости молекулярного движения газа

3.4.3 МОЛЕЛЬ ЭТИЧЕСКАЯ ТЕОРИЯ КОРЕЦИЯ 172

3.5 Теория переходного состояния 177

3.5.1 Формула Эйринга переходного состояния 178

3.5.2 Функция молекулярного распределения (Q″

3.5.3 Связь между скоростью реакции и функцией распределения 184

3.5.4 Формула Эйринга Термодинамические характеристики скорости химической реакции переходного состояния 185

3.6 Теория RRKM 187 одно -молекулярных реакций 187

3.6.1 ТЕОРИЯ ЛИНДЕМАННА 187

3.6.2 Линдеманн-Хиншельвуд Теория 189

3.6.3 Теория RRK 189

3.6.4 Теория RRKM 189

3.7 Подробный механизм химических реакций 190

3.8 Упрощение химических реакций. Детальный механизм 195

3.8.1 Создание организации скелета 195

3.8.2 Квази -стационарное государственное предположение 197

3.8.3 Выберите и удалите набор линейных неродственных быстрых реакций, соответствующих соответствующему компоненту стабильности 199

3.8.4 Установите общее уравнение скорости реакции 204

3.8.5 Решение матрицы компонентов состояния квази -стабильного состояния 207 207

3.8.6 Некоторые методы меньшей суммы расчета 209

3.9 Упрощение селективного каталитического восстановления Подробное механизм 2 2

3. Общая реакция процесса химической реакции 214

3..1 Установление полной реакции 214

3..2 Постоянная скорость реакции в общей реакции k и порядка&Альфа;

3.11 Общая реакция серы -газосодержащих компонентов при низком сжигании азота в угле составляет 216

3.11.1 Подробный механизм серы, содержащей газовую реакцию 217

3.11.2 Общий ответ серы, содержащих компоненты 218

3.11.3 Оптимизация общих динамических параметров компонентов серы

3.11.4 Анализ чувствительности 224

3.11,5 Проверка общей реакции 226

3.12 Резюме 228

Символ Таблица 229

Ссылки 231

Глава 4 Сплошная структура и химия дефектов 236

4.1 Введение 236

4.2 Мощность между атомами в твердых веществах 236

4.2.1 Ion Key 237

4.2.2 Ключ казино 240

4.2.3 Металлический ключ 242

4.2.4 Молекулярная связь и молекулярный кристалл 243

4.2.5 Hydrode Snal 246

4.2.6 Комбинация CAN 247

4.3 Сплошная структура 250

4.3.1 Структура и точечная матрица кристалла 252

4.3.2 Кристаллический и квадратный тип 255

4.3.3 Кристаллическая поверхность и кристаллический индекс 257

4.3.4 Общая кристаллическая структура и геометрические особенности 263

4.4 Дефекты и баланс в твердых веществах 267

4.4.1 Тип дефекта 267

4.4.2 Дефектный термодинамический баланс 268

4.4.3 Символы дефектов указывают 271

4.4.4 Дефектный ответ и принцип написания 273

4.5 Внутренние дефекты, внешние дефекты и дефекты потребителей 274

4.5.1 Внутренний дефект 274

4.5.2 Внешние дефекты 275

4.5.3 Протон дефект 285

4.5.4 Жареная история 287

4.6 может принести 288

4.7 Электронный дефект 292

4.8 Химическое измерение соединение 294

4.8.1 Концепция химического измерения 294

4.8.2 Внутренние дефекты в химическом измерении 297

4.8.3 Внешние дефекты химического измерения 298

4.9 Резюме 300

Символ Таблица 301

Ссылки 302

Глава 5 Структура твердой поверхности и реакция газовой поверхности 306

5.1 Введение 306

5.2 Структура твердой поверхности 307

5.2.1 Симметрия передачи и точечная симметрия 307

5.2.2 LELE INDEX 309 из двухмерной матрицы

5.2.3 Экспресс -метод двухмерной поверхностной структуры 313

5.2.4 Двухмерная структура поверхности легко внести в матрицу 317

5.3 поверхностная термодинамика и поверхностная энергия 320

5.4 Физическая адсорбция и химическая адсорбция 325

5.4.1 Физическая адсорбция 325

5.4.2 Химическая адсорбция 329

5.5 Динамика адсорбции 333

5.5.1 Langmuir Tempret, страдая 334

5.5.2. Определить с помощью адсорбционной тепло 336

5.5.3. Обработка Langmuir с добавлением температуры. Образование в поверхностной реакции 338

5.6 Поверхностная реакция 342

5.7 Анализ процесса адсорбции поверхности и реакции 348

5.7.1 Метод анализа частичного баланса адсорбции и реакции 349

5.7.2 Метод анализа стабильного состояния

5.7.3 Реакционная адсорбция и реакция. 363.

5.8 Поверхностная диффузия 365

5.8.1 Коэффициент поверхностной диффузии 366

5.8.2 Шкала времени поверхностной диффузии 367

5.8.3 Экспериментальное измерение коэффициента поверхностной диффузии 368

5.8.4 Теоретический расчет поверхностной диффузии 369

5.9 Линейная динамика поверхностной реакции 373

5.9.1 колебательный феномен химических реакций 373

5.9.2 Поверхностная реакция Феномен 375

5.9.3 Самоорганизованное поведение поверхностной реакции 377

5.9.4 Самоорганизованное поведение твердой реакции ци 378

5. Резюме 379

Символ Таблица 381

Ссылка 382

Глава 6 Формирование и рост твердых продуктов 388

6.1 Введение 388

6.2 Структура твердого продукта в твердых реакциях QI 389

6.3 Образование твердого продукта и изображения роста в твердых реакциях QI 394

6.3.1 CAO и CO2 Реакция 395

6.3.2 Формирование и рост продукта MGSO4 в реакциях MGO и SO2 и O2

6.3.3 CACO3 Внешний вид поверхности при высокой температуре и высокой концентрации CO2 изменяется 398

6.4 Прямая реакция вулканизации CACO3 и SO2 и O2 401

6.3.5 CA (OH) 2 AFM Изображение 401 реагирует на реакцию SO2

6.3.6 Fe и Cu окисление 403

6.3.7 Nio Restore 406

6.4 Химический потенциал твердых частиц и уравнения Gexus-Tomson 407

6.4.1 Химический потенциал твердых частиц 407

6.4.2 Gibbes-Tom Sun Formula 409

6.4.3 Поверхностная диффузия твердых частиц 4

6.5 Ядро и рост твердых продуктов 411

6.5.1 Режим роста твердого продукта 411

6.5.2 Поместите ядро ​​412

6.5.3

6.5.4. Ядерный 417 на поверхности твердого реактора 417

6.5.5 Рост твердых продуктов 419

6.5.6 Форма острова твердого продукта 420 420

6.6 Отвальд Грубая 422

6.6.1 Динамическое уравнение 422

6.6.2 одно -мерное непрерывное уравнение 425

6.6.3 Уравнение сохранения качества 426

6.7 Анализ уравнения пересечения Отвальда 430

6.8 Влияние твердых продуктов на ядерную, рост и шероховатость на динамику 436

6.9 Теория темпов роста роста твердого продукта в теории твердой реакции газа 439

6.9.1 Физическое изображение 439

6.9.2 Формула 441

6.9.3 Физическое значение уравнения скорости 446

6.9.4 Раскрытие и числовое решение уравнения скорости 447

6.9.5 Применение формулы 450

6. Критический слой продукта и регуляция в газовой реакции 453

6.11 Резюме 457

Символ 459

Ссылки 460

Глава 7 Диффузия слоя продукта 465

7.1 Введение 465

7.2 Закон Фика Профессор 468

7.2.1 Закон Фика Фрис 468

7.2.2 Болицманский раствор 470 с стабильной диффузией

7.2.3 Sino Jiefa 473

7.3 Micro теория диффузии твердого состояния 475

7.3.1 Микро -форма закона диффузии Фика 475

7.3.2 Теория ходьбы диффузионного атом 477

7.3.3 Микро механизм диффузии твердого состояния 479

7.4 Эффект с колладарным атомами, выполненные с взаимной диффузией 487

7.4.1 Эффект CFKDAL 487

7.4.2 Dakin Formula 489

7.4.3 Фактическое применение эффекта Кентара 492

7.4.4 Продукты