Фотополимеры: фоторезистские материалы, процессы и применение фотополимеры: фоторезистские материалы, процессы и применение
Вес товара: ~0.7 кг. Указан усредненный вес, который может отличаться от фактического. Не включен в цену, оплачивается при получении.
Описание товара
Фотополимеры: фоторезистирующие материалы, процессы и применение
Автор: Накамура, Кенитиро
Издательство: CRC Press (11 августа 2014 г.)
Номер: с
Английский язык
ISBN: 9781466517288
Штрих-код: 9781466517288
Вес товара: 410,00G
Размер продукта: 23,62 см * 15,75 см * 1,78 см
Выбор редактора
Достижения в области фотополимеров привели к революционным достижениям в области электроники, печати, оптической техники и медицины. В настоящее время фотополимеры находят множество применений в производстве полупроводниковых приборов, печатных плат (PCB), отверждении ультрафиолетом (УФ), печатных пластинах, 3D-печати, микроэлектромеханических системах (MEMS) и медицинских материалах. Такие процессы, как фотополимеризация, фотодеградация и фотосшивка, а также технология литографии, в которой фотообработка выполняется с помощью изображений фотополимеров, привели к появлению очень крупномасштабных интегральных схем (СБИС), микропродуктов и многого другого.
Рассматривая такие темы, как химически усиленные резисты, иммерсионная литография, литография в крайнем ультрафиолете (EUV) и наноимпринтинг,Фотополимеры: фоторезистирующие материалы, процессы и применениеохватывает фотополимеры от основных концепций до промышленного применения, предоставляя химические формулы и структуры обсуждаемых материалов, а также практические исследования некоторых крупнейших корпораций мира. Предлагая современный обзор прогресса в разработке фотополимеров, эта книга дает ценную информацию о текущих и будущих возможностях использования фотополимеров.
Biographical Note
Kenichiro Nakamuraокончил Университет Канадзавы, Япония, в 1963 году и Токийский университет, Япония, в 1968 году, получив степень доктора инженерных наук. В 1968–1970 годах он провел постдокторскую стажировку в Техасском университете в Остине, США. Его опыт также включает работу у профессора Альберта Нойеса в области фотохимии; занимал должности доцента (1970-1978), профессора (1978-2010) и почетного профессора (2010-настоящее время) Университета Токай, Япония; и занимал должность главного редактора журналаЖурнал фотополимерной науки и технологий(1998-настоящее время). Помимо книг, его работы опубликованы во многих престижных журналах.
