[国之重器出版工程 TFT-LCD原理与设计第二版第2版 马群刚 高校科研单位企业政府等学习应用和发展TFT-LCD显示技术参考书籍]
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[目录]
[第章绪论]
[1.1TFT-LCD的功能结构]
[1.2TFT-LCD的基本概念]
[1.2.1与物理相关的概念]
[1.2.2与光学相关的概念]
[1.3TFT-LCD的彩色显示]
[1.3.1光的颜色和亮度]
[1.3.2色的坐标和温度]
[1.3.3彩色显示的基本概念]
[本章参考文献]
[第2章TFT器件技术]
[2.1TFT器件基础]
[2.1.1TFT器件的种类与结构]
[2.1.2TFT器件的开关特性]
[2.1.3TFT开关特性的结构设计]
[2.2a-SiTFT技术]
[2.2.1a-Si半导体特性]
[2.2.2a-SiTFT开关特性]
[2.2.3a-SiTFT工艺技术]
[2.2.4a-SiTFT开关的工艺设计]
[2.3LTPSTFT技术]
[2.3.1LTPSTFT的分类]
[2.3.2LTPS半导体特性]
[2.3.3LTPSTFT器件特性]
[2.3.4LTPSTFT工艺技术]
[2.4IGZOTFT技术]
[2.4.1IGZO半导体特性]
[2.4.2IGZOTFT器件特性]
[2.4.3IGZOTFT可靠性]
[本章参考文献]
[第3章液晶显示基础]
[3.1液晶结构]
[3.2液晶光学]
[3.2.1液晶的光学各向异性]
[3.2.2液晶的偏光特性]
[3.3液晶电学]
[3.3.1液晶的介电各向异性]
[3.3.2液晶的V-T特性]
[3.3.3液晶的交流驱动]
[3.4液晶力学]
[3.4.1液晶的黏弹性]
[3.4.2液晶动态电容效应]
[3.5液晶材料]
[3.5.1液晶分子结构与特性]
[3.5.2液晶材料的特性要求]
[3.6液晶显示模式]
[3.6.1TN显示模式]
[3.6.2IPS显示模式]
[3.6.3VA显示模式]
[本章参考文献]
[第4章TFT-LCD材料技术]
[4.1玻璃基板]
[4.1.1玻璃基板的制造技术]
[4.1.2玻璃基板的使用要求]
[4.2导电薄膜]
[4.2.1金属导电薄膜]
[4.2.2ITO透明导电薄膜]
[4.3配向膜]
[4.3.1配向膜的材料技术]
[4.3.2配向膜的特性要求]
[4.4封框胶]
[4.5间隙子]
[4.6CF基板]
[4.6.1CF的材料技术]
[4.6.2CF的特性要求]
[4.7偏光板]
[4.7.1偏光板概述]
[4.7.2相位差板]
[4.7.3宽视角补偿膜]
[4.8电路元件]
[4.8.1电学元器件]
[4.8.2PCB基板]
[4.8.3驱动IC封装方式]
[4.9背光源]
[4.9.1光源]
[4.9.2光学膜片]
[4.9.3导光板]
[本章参考文献]
[第5章TFT-LCD工艺技术]
[5.1阵列工艺技术]
[5.1.1阵列工艺流程]
[5.1.2玻璃基板洗净]
[5.1.3PVD成膜]
[5.1.4PECVD成膜]
[5.1.5光刻胶处理]
[5.1.6曝光处理]
[5.1.7湿刻]
[5.1.8干刻]
[5.1.9阵列检查工程]
[5.2成盒工艺技术]
[5.2.1配向膜处理]
[5.2.2封框胶涂布]
[5.2.3液晶滴下]
[5.2.4真空贴合]
[5.2.5封框胶硬化]
[5.2.6玻璃切断]
[5.2.7偏光板贴附]
[5.2.8成盒工程检查]
[5.3模块工艺技术]
[5.3.1外引脚贴合]
[5.3.2信号处理基板压接]
[5.3.3模块组装]
[5.3.4老化实验]
[5.3.5模块工程检查]
[本章参考文献]
[第6章TN显示原理与设计]
[6.1TN显示原理]
[6.1.1TN显示的透光率]
[6.1.2TN显示模式的选择]
[6.1.3TN显示的光学原理]
[6.1.4TN显示的电学原理]
[6.2TN像素工作原理]
[6.2.1TN像素基本结构]
[6.2.2像素中的电容效应]
[6.2.3配线延迟效应]
[6.2.4灰阶电压写入与保持]
[6.2.5TN显示的综合效应]
[6.315XGA的显示屏设计]
[6.3.1预设计]
[6.3.2TFT侧像素设计]
[6.3.3彩膜侧像素设计]
[6.3.4显示屏周边设计]
[6.3.5显示屏用标记设计]
[6.415XGA的基板相关设计]
[6.4.1基板用TEG与标记设计]
[6.4.2UV掩膜版和UV基板设计]
[6.4.3配向膜印刷版设计]
[本章参考文献]
[第7章IPS显示原理与设计]
[7.1IPS显示原理]
[7.1.1IPS显示的透光率]
[7.1.2IPS显示的光学原理]
[7.1.3IPS显示的电学原理]
[7.2IPS技术的发展]
[7.2.1S-IPS显示技术]
[7.2.2AS-IPS显示技术]
[7.2.3FFS显示技术]
[7.2.4AFFS显示技术]
[7.332HDIPS显示屏设计]
[7.3.1IPS像素设计原理]
[7.3.232HD像素设计]
[7.3.332HD显示屏设计]
[7.432UHDFFS显示屏设计]
[7.4.1AFFS像素设计原理]
[7.4.232UHD像素设计]
[7.4.332UHD显示屏设计]
[7.5IPS残像的机制与对策]
[7.5.1IPS残像的机制]
[7.5.2离子型不纯物分析]
[7.5.3残留DC分析]
[7.5.4线残像的机制与对策]
[本章参考文献]
[第8章VA显示原理与设计]
[8.1VA显示原理]
[8.1.1VA显示的透光率]
[8.1.2VA显示的光学原理]
[8.1.3VA显示的电学原理]
[8.2VA技术的发展]
[8.2.1MVA显示技术]
[8.2.2PVA显示技术]
[8.2.3CPA显示技术]
[8.2.4PSVA显示技术]
[8.2.5UV2A显示技术]
[8.3VA的色偏机理与对策]
[8.3.1VA的色偏机理与评价]
[8.3.2色偏的8畴改善技术]
[8.3.3色偏的其他改善技术]
[8.498QUHD显示屏设计]
[8.4.198QUHD的传统VA像素设计]
[8.4.298QUHD的光配向VA像素设计]
[8.4.398QUHD显示屏设计]
[本章参考文献]
[第9章TFT-LCD驱动技术与设计]
[9.1TFT-LCD驱动原理]
[9.1.1驱动原理简介]
[9.1.2驱动方式]
[9.1.3灰阶增强技术]
[9.2TFT-LCD电路技术]
[9.2.1接口电路]
[9.2.2电源电路]
[9.2.3时序控制电路]
[9.2.4数据驱动电路]
[9.2.5扫描驱动电路]
[9.3TFT-LCD电路设计]
[9.3.1电路原理图设计]
[9.3.2PCB和COF版图设计]
[9.3.3COF设计]
[9.3.4伽马设计与调节]
[本章参考文献]
[第10章TFT-LCD结构技术与设计]
[10.1结构技术与设计概要]
[10.1.1结构技术概要]
[10.1.2结构设计概要]
[10.2模组的结构设计]
[10.2.1开路显示屏结构设计]
[10.2.2胶框设计]
[10.2.3导光板设计]
[10.2.4光学膜片设计]
[10.2.5CCFL光源的结构设计]
[10.2.6LED光源的结构设计]
[10.3背光源的光学设计]
[10.3.1光学设计基础]
[10.3.2亮度设计]
[10.3.3亮度均匀性设计]
[10.3.4光学品质设计]
[10.4模组的力学设计]
[10.4.1强度设计]
[10.4.2散热设计]
[10.4.3防尘设计]
[10.5模组的电学设计]
[10.5.1EMI设计]
[10.5.2绝缘耐压设计]
[10.6模组的其他设计]
[10.6.1组装设计]
[10.6.2安全性设计]
[本章参考文献]
[第11章高品质和低成本设计]
[11.1面向光学规格的高品质设计]
[11.1.1高亮度设计]
[11.1.2高对比度设计]
[11.1.3高响应速度设计]
[11.2面向特殊画质的高品质设计]
[11.2.1闪烁机制与设计对策]
[11.2.2串扰机制与设计对策]
[11.2.3显示不均的机制与设计对策]
[11.3高合格率设计]
[11.3.1工程检查及相关设计]
[11.3.2ESD改善设计]
[11.3.3点缺陷修复设计]
[11.3.4线缺陷修复设计]
[11.4低成本设计]
[11.4.1掩膜版消减技术]
[11.4.2驱动IC消减技术]
[11.4.3背光源零组件消减技术]
[本章参考文献]
[第12章半透过型TFT-LCD设计]
[12.1反射型TFT-LCD原理与设计]
[12.2半透过型TFT-LCD原理与设计]
[12.3半透过型TFT-LCD的反射光学设计]
[12.3.1内反射光学设计]
[12.3.2外反射光学设计]
[12.4半透过型TFT-LCD的偏光光学设计]
[12.4.1ECB常白模式的偏光光学设计]
[12.4.2ECB常黑模式的偏光光学设计]
[本章参考文献]
[内容介绍]
[本书将科学原理与工程实践相结合，系统地介绍TFT-LCD的基本原理与功能设计。全书共12章，分三大部分。第部分介绍TFT-LCD的基本概念，TFT器件的工作原理与液晶的基本物理特性；第二部分介绍TFT-LCD的材料技术与工艺技术；第三部分介绍TNIPSVA显示屏原理与设计、TFT-LCD电路驱动原理与设计、TFT-LCD模组结构原理与设计、TFT-LCD高品质和低成本设计、半透过型TFT-LCD原理与设计。本书在介绍TFT-LCD基本原理的基础上，全面地介绍了近几年发展起来的TFT-LCD新技术、新应用。]
[本书可作为高校、科研单位、企业、政府等学习、应用和发展TFT-LCD显示技术的重要参考资料。]