Учебники бакалавриата, инженерный и технический персонал аспирантов в соответствующих специальностях соответствующих специальностей средних колледжей и университетов научного вакуумного покрытия и технологий
Вес товара: ~0.7 кг. Указан усредненный вес, который может отличаться от фактического. Не включен в цену, оплачивается при получении.
Описание товара
Название: Принцип вакуумного покрытия и технология
Цена: 49,0 Юань
Пресса: Science Press
ISBN: 9787030398987
Упаковка: Тихий океан
Открыто: 16
Версия: февраль 2014 года издание 1
Слова: 282 тысячи слов
Эта книга описывает применение вакуумного покрытия. Вакуумное распыление, вакуумное вакуумное покрытие, вакуумный вакуум. Принципы, характеристики, устройства и технология применения ионного покрытия и химического газа.Стремитесь избежать утомительных математических формул и попытаться объяснить физический процесс на простом языке.Это легко понять, просто и легко выучить.
Предисловие
Глава 1 Обзор вакуумного покрытия
1.1 ВВЕДЕНИЕ В СЕРИЧЕСКОЕ Пленка
1.2 Введение в вакуумное покрытие
1.2.1 Физический процесс вакуумного покрытия
1.2.2 Классификация вакуумного покрытия
1.2.3 Характеристики вакуумного покрытия
1.3 Применение и разработка технологии вакуумного покрытия
1.4 Система вакуумного покрытия
1.4.1 Основные концепции системы вакуумного покрытия
1.4.2 Вакуумный насос
1.4.3 вакууммометр
Рекомендации
ГЛАВА 2 ПАКУМСКОЕ ПРОЦЕССИИ
2.1 Введение в рост фильмов
2.2 Сплошная поверхность
2.3 Процесс роста фильма
2.3.1 Адсорбция
2.3.2 Диффузия и предприятие
2.3,3 процента
2.3.4 Образование непрерывной мембраны
2.4 Три способа роста пленки
2.5 Структура и дефект твердотельной пленки
2.6 Природа твердой пленки
2.7 Сплошная пленка напряжение
2.8 Адгезия пленки и матрицы
2.9 Матрица
Глава 3 Вакуумное испарение покрытие
3.1 Принципы вакуумного испарения
3.2 Источник для паряков сопротивления
3.2.1 Принципы парового происхождения Dianyang
3.2.2.
3.2.3 Основные особенности источников нагрева сопротивления
3.2.4 Применение устойчивости на отопление вакуума
3.3 Источник на пару электронного луча
3.3.1 Принципы и структуры электронных орудий E -типа
3.3.2 Характеристики электронного пистолета E -типа
3.3.3 Применение электронного выпаривания электронного вакуума Electronic Fun.
3.4 Sleeping Pailing Paring Source
3.4.1 Принцип чувствительного нагрева
3.4.2 Характеристики индукционного нагрева
3.5 Импульсное лазерное осаждение (PLD)
3.5.1 Система PLD
3.5.2 PLD Принцип работы
3.5.3 PLD Технические характеристики
3.5.4 PLD Применение и разработка
3.6 Расширение молекулярного луча
3.6.1 Принципы молекулярной камбоджи
3.6.2 Эпидемическое устройство молекулярного луча
3.6.3 Специальная точка расширения молекулярного пакета
3.6.4 Применение и прогресс технологии удлинения молекулярного луча
3.7 Важные параметры в вакуумном испарительном покрытии
3.8 Толщина мембраны, нанесенной на подложку во время испарительного покрытия
3.8.1 Расчет единородности с одной пленкой в одноместе
3.8.2. Влияние относительного положения парового источника и относительного положения субстрата на однородность пленки фильма
Рекомендации
......
Глава 4 вакуумное покрытие Splane
Глава 5 Вакуумное ионовое покрытие
Глава 6 Химическое осаждение фазы QI
Рекомендации
......